화성산업진흥원 · 기술 · gyeonggi
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한국나노기술원 팹서비스 이용료* 2026년 06월 1일부터
다음 변경일까지 (단위 원) 지원 라인 코드명 FL-EL10 장비명 서비스이용료 직접사용 E-beam lithography I (9300) FL-ST10 KrF Stepper FL-ST20 l-line Stepper FL-CA10 기술원 의뢰 500,000/hr + 60,000/wf 공정 내용 Pattern Exposure 370,000/기본료 + 60,000/wf Pattern Exposure 300,000/기본료 + 60,000/wf Pattern Exposure Automated Mask Aligner I 140,000/기본료 + 60,000/wf Pattern Exposure FL-CA40 Automated Mask Aligner II 140,000/기본료 + 50,000/wf Pattern Exposure FL-CA20 Contact Aligner I (Manual) 120,000/기본료 + 50,000/wf Pattern Exposure FL-CA70 Automated Mask Aligner IV (8 inch) 170,000/기본료 + 60,000/wf Pattern Exposure FL-CA80 Contact Aligner VIII FL-SC20 Spin Coater ll 50,000/wf 75,000/30min 170,000/기본료 + 60,000/wf 170,000/기본료 + 70,000/wf 30,000/wf 50,000/wf 비고
파일변환, 잡파일 작성, 전자빔 보정작업, 로딩/언로딩 등 기본 준비시간 포함
8 inch
기술원 Standard Reticle 사용 시 장비 이용료 추가(200,000원/Lot)
6" Flat type
외 30개 항목 — 공고 원문에서 확인
길어서 뒷부분은 줄였습니다 — 공고 원문에서 전체 확인 ↗