전남지역지식재산센터 · R&D · jeonnam
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(재)전남테크노파크 『 지역 기술혁신과 일자리 창출의 산실 』 2026년도 IP( 지식재산) 디딤돌 프로그램 후속지원사업
모집공고 (재)전남테크노파크 전남지식재산센터에서는 우수 사업아이템을 보유한 초기 창업기업의 경 쟁력 강화를 위해 아래와 같이 「2026 년도 IP( 지식재산) 디딤돌 프로그램 후속지원 사업 」 의 추진을 위한 지원대상을 모집코자 합니다. 1
(사업소개)
우수 사업아이템을 보유한 IP 디딤돌 수혜자를 대상으로 특허망구축, PCT 출원, 브 랜드 및 디자인 개발 등을 제공하여 사업화 및 성장 지원 도모
(지원분야)
특허망 구축(국내출원), PCT 출원, 신규 브랜드 개발, 제품 디자인 개발, 화상디자 인 개발(일반), 화상디자인 개발(심화), 포장디자인 개발
(지원대상)
2024~2026 년 IP( 지식재산) 디딤돌 프로그램 권리화 지원받은자 중에서 최초 상담일 이 후에 창업을 한 자 (상담일 이전에 창업을 한 자는 지원 불가) - IP( 지식재산) 디딤돌 프로그램 권리화 지원 프로그램을 통해 출원한 특허기술만을 대상 으로 지원 가능
외 2개 항목 — 공고 원문에서 확인
접수기한 2026년 4월 3일 부터 2026년 10월 15일까지(예산 소진시 조기 종료)
pms.ripc.org 사이트 회원가입 후 신청
지원받고자 하는 사업에 맞추어서 서류 제출 요망 연번 서 류 명 제출 부수 원본 여부 필수/ 선택 비 고 1 IP( 지식재산) 디딤돌 창업자 후속지원신청서 1 사본 필수 2 세부사업별 추가 신청서(특허망) 1 사본 필수 신청사업에 맞추어 작성 3 세부사업별 추가 신청서( PCT 분야) 1 사본 필수 4 세부사업별 추가 신청서(브랜드, 디자인) 1 사본 필수 5 사업자등록증 사본 1 사본 필수 6 사업계획서 1 사본 필수 7 기업,제품 소개자료 1 사본 선택 8 주요실적 및 성과 증빙자료 1 사본 선택 3 과업범위 및 지원비용
과업범위 및
과업범위 특허망 - IP 디딤돌 프로그램을 통해 특허 출원된 건에 대하여 보완할 수 있는 특허 출원서 작성 및 사후관리(권리화 지원사업으로 출원된 건 포함 최대 3건) PCT 출원 - IP 디딤돌 프로그램을 통해 특허 출원된 건에 대하여 출원을 위한 출원서 작성, 대리인 비용 및 관납료 지원 신규 브랜드 개발 - IP 디딤돌 프로그램을 통해 특허 출원된 사업아이템과 관련하여 BI/CI 개발 (택1 혹은 BI/CI 통합형 가능), 상표 출원 1건 등 제품 디자인 개발 - IP 디딤돌 프로그램을 통해 특허 출원된 사업아이템과 관련하여 제품디자인 개발 및 디자인 출원 1건 등(
금형디자인으로 바로 적용 불가)
5. 화상디자인 개발(일반, 심화) - IP 디딤돌 프로그램을 통해 특허 출원된 사업아이템과 관련하여 화상디자인 개발( GUI- 일반, UI/UX, 구조설계-심화), 디자인 출원 1건 및 관련 작 업물(이미지 파일 등) 제공
홈페이지 등 웹디자인 제외
6. 포장디자인 개발 - IP 디딤돌 프로그램을 통해 특허 출원된 사업아이템과 관련하여 포장디자 인 개발 및 디자인 출원 1건 등
(자부담) 수행단가의 20%로 수혜자 개인이 부담
외 2개 항목 — 공고 원문에서 확인
길어서 뒷부분은 줄였습니다 — 공고 원문에서 전체 확인 ↗